等离子体增强MOCVD原理
等离子辅助MOCVD技术
NMC-3000 PAMOCVD系统概述：
NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制，完全的安全互锁。
目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。
NMC-3000 PAMOCVD系统应用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)
NMC-3000 PAMOCVD系统特点：
台式系统
5个带独立冷却槽的起泡器
加热的气体管路
950 °C样品台，2"晶圆片
3个气体环
RF等离子源，带淋浴头气体分布
工艺完成后N2自动冲洗
极限真空5x10-7Torr
260 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵
通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问控制
完整的安全联锁
NMC-3000 PAMOCVD系统 Features：
Table Top System
ive Bubblers with Individual Cooling Baths
Heated Gas Lines
950 °C Platen, 2" Wafer
Three Gas Rings
RF Plasma Source with Shower Head Gas Distribution
N2 Flush after Process
5x 10-7 Torr Base Pressure
250 l/sec Turbomolecular Pump with Oil Free Scroll Pump
那诺中国有限公司///等离子体增强MOCVD原理 |
免责声明： 以上所展示的信息由会员自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布会员负责，企业录对此不承担任何责任。如有侵犯您的权益，请来信通知删除。