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| 供应进口晶圆清洗机/生产研究用晶圆清洗去胶系统 |
进口晶圆清洗机/生产研究用晶圆清洗去胶系统
兆声清洗技术
LSC-4000兆声大基片清洗系统概述：
*新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了*新的水平，可以帮助用户获得*干净的晶圆片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统，用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的*大化支持*理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。LSC和SWC系列一样具备对点试剂滴胶系统，可以*大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。
通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了*低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，*先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。
此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。
LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出" 一步工艺可以在我们的系统中以*低的投资和购置成本来实现
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